Plaque offset Aluva
:Aluva N
La plaque négative multi-usage, robuste et très rapide pour les systèmes UV de Lüscher
Fruit de la technologie exclusive de fabrication de plaques d’Agfa, la plaque :Aluva N s’intègre en toute transparence aux systèmes CTP UV fabriqués par Lüscher. Cette plaque a un large éventail d’applications : elle peut convenir à la plus grande imprimerie de labeur en offset comme aux petites entreprises imprimant sur machine feuilles. Conçue pour la technologie des plaques UV, la plaque :Aluva N bénéficie de l’expérience et de la position dominante d’Agfa sur le marché des plaques analogiques et numériques. Elle combine la technique avancée de couchage des plaques sensibles aux UV à un substrat éprouvé en aluminium grainé et anodisé de qualité supérieure. Résultat : une plaque sensible aux UV conçue exclusivement pour les applications CtCP (Computer-to-conventional-plate).
Performances optimales des presses
Ces plaques se caractérisent par des performances lithographiques exceptionnelles : démarrage rapide, mouillage faible, stabilité de l’équilibre encre/eau et redémarrage rapide après les arrêts de presse. Cette plaque facile à manipuler offre une excellente durabilité et permet des cycles de 250 000 tirages ou plus (selon les conditions d’exposition et l’état des presses). La plaque :Aluva N est une solution « sans cuisson » conçue pour les cycles à volume élevé. Aucune cuisson n’est nécessaire en cas d’utilisation d’encre UV.
Exposition de qualité supérieure
La technologie :Aluva N consiste en une plaque de travail négative offrant un contraste d’image très élevé. Exposée avec les systèmes UV XPose! éprouvés de Lüscher, cette plaque permet une exposition avec une trame AM à une linéature de 200 lpi (80 lpcm) et une trame FM de 25 µ. Elle peut en outre être utilisée dans bon nombre d’applications d’impression de qualité supérieure, notamment avec tramage aléatoire.
Exposition rapide et traitement éprouvé des plaques
Cette plaque combine une exposition rapide, précise et à latitude élevée à un traitement simple et robuste. En outre, elle est compatible avec un large éventail de développeuses de différents fabricants. Pour une impression et une durée de vie des bains optimales, choisissez le système de développement à bain alcalin Prima EN232 d’Agfa avec la plaque :Aluva N.
:Aluva P
La plaque positive rapide, polyvalente et fiable pour systèmes UV Lüscher
Les plaques :Aluva P sont la nouvelle référence en matière d’exposition CtCP (Computer-to-Conventional-Plate) car elles permettent de rester productif et rentable en fournissant le flux soutenu de plaques de qualité nécessaire aux ateliers d’impression. S’intégrant en toute transparence aux systèmes CTP UV fabriqués par Lüscher, elles trouvent de nombreuses applications dans l’impression sur rotative et sur machine feuilles. Conçue pour la technologie des plaques UV, la plaque :Aluva P bénéficie de l’expérience et de la position dominante d’Agfa sur le marché des plaques analogiques et numériques. Elle combine la technique avancée de vernissage sur plaque sensible aux UV à un substrat éprouvé en aluminium grainé et anodisé de qualité supérieure. Résultat : la première plaque sensible aux UV conçue spécialement pour les applications CtCP (Computer-to-conventional-plate).
Performances exceptionnelles des presses
La technologie Flat Substrate d’Agfa garantit la latitude la plus élevée sur les presses sans risque de dégradation des performances. Il en résulte un démarrage rapide, un mouillage faible, un équilibre encre/eau stable et d’excellentes performances lithographiques sur les presses, y compris un redémarrage rapide après arrêt. Cette plaque permet d’effectuer des cycles de 150 000 tirages ou plus. La post-cuisson permet des cycles supérieurs à un million de tirages. Elle est obligatoire en cas d’utilisation d’encres UV.
Exposition de qualité supérieure
La technologie :Aluva P consiste en une plaque de travail positive offrant un contraste d’image très élevé. Exposée avec les systèmes UV XPose! éprouvés de Lüscher, cette plaque permet une exposition avec une résolution AM de 200 lpi (80 lpcm) et une résolution FM de 25 µ. Elle peut en outre être utilisée dans bon nombre d’applications d’impression de qualité supérieure telles que le tramage aléatoire.
Compatible avec les systèmes de traitement de plaques existants
Largement adoptée par les professionnels du monde entier, la technologie des plaques positives est compatible avec une vaste gamme de développeuses de différents fabricants. Pour une impression et une durée de vie des bains optimales, choisissez le système de développement à bain alcalin Prima DP250 d’Agfa avec la plaque :Aluva P.
